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第563章 双轨会诊（第3页）

o厂的一名设计员道：“这种情况，刻蚀之后，拐角处会形成缩颈。流片回来，基本可以肯定是根断线。”

台下有人倒吸了一口凉气。

汪涵教授的钢笔停了一下，然后又继续写。

“第五类问题，缺少虚拟填充。”

曾祺点着手工版的大块空白区域。

“手工版在这些空白区域没有加duyta。化学机械抛光之后，这些地方会凹陷。”

他在空中画了一个剖面图。

“凹陷的后果是，在后续光刻时，这些区域的焦深会偏差，影响图形精度。小范围还好，但大面积的空白区域，会直接影响整颗芯片的良率。”

“第六类问题，接触孔尺寸不一致。”

他的金属棒点着接触孔的区域。

“手工版不同模块的接触孔直径存在o到o微米的偏差，而且位置也有偏移。cad版全部调用标准单元库，尺寸、间距完全一致。”

他翻开报告最后一页：“对比现，手工版的部分接触孔，刻蚀后没有完全打开。接触电阻比正常值大了两个数量级。”

他把报告合上，放下金属棒，转过身。

“手工版的问题，就这些。”

设计室里安静了几秒。

吕辰坐在靠墙的位置，手指在桌面上轻轻叩着。

gy-cu-o是他亲手画的，时钟线绕了半个芯片，电源线只画了o微米宽，这些毛病都是他犯的。

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他端起搪瓷缸子，喝了一口已经凉透的茶，苦得要命。

汪教授道：“说说cad版的问题。”

曾祺点了点头，走到右边那张cad版前面，拿起金属棒。

“手工版的问题不少，但cad版的问题也不少。”

他在cad版上点了几下。

“第一类问题，也是cad版最核心的一个问题，关键路径布线绕远，延迟反而比手工版更大。”

他点着位加法器的进位链。

“cad版的自动布线，为了绕开障碍物，把进位链的走线绕了很远。从输入到输出，总长度达到了毫米。”

金属棒移到手工版上对应的位置。

“手工版这边，设计师会手动推挤其他走线，给进位链让路，让它走直线。总长度只有毫米。”

“对比仿真现，cad版进位链的延迟比手工版大了。时序收敛更困难。”

他顿了顿，补了一句：“而且这个问题不是个例。好几颗芯片的关键路径，cad版都有绕远的情况。”

诸葛彪嘿嘿笑了一声：“cad这是笨，它不知道哪条路要紧。它只知道‘从这里到那里有一条路可以走’，至于这条路弯了几个弯、绕了多远，它不在乎。”

汪涵教授手里的钢笔停了，抬起头看了诸葛彪一眼，没说话，低下头继续写。

曾祺继续说：“第二类问题，cad版对特殊定制结构不智能。”

他点着cad版上的存储阵列区域。

“存储阵列的位线，cad也做了自动布线，导致位线长度不一致。位线长度不一样，读放大器就会失调。”

金属棒移到手工版。

“手工版这边，设计师手动匹配了位线长度，误差控制在以内。”

“对比现，cad版的存储单元读窗口变小，噪声容限下降。如果直接用这版流片，存储芯片的良率会很不好看。”

吴国华补充了一句：“这个问题在kl-sra的设计上我们也遇到过。当时手工匹配位线，花了两天时间。cad版自动布线，十分钟就跑完了，但结果不能用。”

汪涵教授的钢笔在纸上顿了一下，留下一个墨点。

他用手背擦了擦，继续写。

“第三类问题，cad版存在过多冗余过孔，增加了寄生电容。”

曾祺点着cad版上密密麻麻的过孔。

“cad版为了可靠性，在每个接触孔旁边自动加了冗余过孔。这本来是一件好事，但问题是，它不加区分，所有孔都加。”